VPO-600 真空压力烤箱

随着半导体、5G通讯、新能源、汽车电子、消费电子及航天军工等产业的快速发展,芯片黏结(DAF)、屏幕贴合(OCA)、底部填充胶(Underfil)、灌封胶(Potting)、印刷涂覆胶(Printing)等工艺制程中,贴合面及胶体内部常产生气泡或空洞,导致产品密封性差、散热不良、可靠性下降,甚至造成电子元器件功能失效。真空压力除泡烤箱正是为解决这一行业痛点而研发的专业设备。产品采用真空与压力交替作用的核心技术,通过先抽真空使胶体
内气泡膨胀逸出,再施加正压力将残余微气泡压缩消除,双效结合,除泡率高达99%以上,有效提升产品良率、一致性和可靠性。

产品描述
产品规格

应用领域: 

半导体封装--芯片黏结/晶圆级封装;汽车电子--电子控制单元/传感器/车灯模组;AI服务器--GPU模组/AI加速卡/HBM封装 服务器主板/OAM模块/HBM模块;消费电子--手机/平板电脑/笔记本电脑/可穿戴设备; 

新能源--动力电池/储能模块;光通信--光模块/硅光模块/激光器;航空航天--航空电子/军工元器件;医疗电子--医疗传感器/内窥镜/植入式电子产品。

产品特点:

* 搭载正负压双模切换系统,压力设定范围-1~8kg/cm2,支持多段压力/真空程序化设定与自动切换。 

* 采用水冷等压马达配合高压风机强制热风循环,主加热器与辅助加热器复合控温,回风通道可选配HEPA高效过滤。 

* 内置循环风水冷系统与独立腔体快速冷却系统,双重降温机制协同工作。 

* 配备PC+PLC智能控制架构,支持多组工艺配方存储与一键调用,可选配MES对接及SECS/GEM通讯协议。 

* 集成电子式与机械式双重超压保护、安全门互锁、密封门安全阀及挥发物回收系统,多重防护机制协同运行。 

* 支持平移自动门或旋转自动门,适配机械手同进同出装载。

产品亮点:

1.除泡彻底,良率大幅提升:真空与压力交替作用,先抽真空让气泡膨胀逸出,再加正压将残余微气泡压缩消除, 有效解决芯片贴合(DAF)、底部灌胶(Potting)、底部填充胶(Underill)、屏幕贴合 (OCA)、印刷涂覆胶(Printing)等工艺中的气泡与空洞问题。

2.智能灵活,柔性制造:多段压力/真空可编程,配方一键存储调用,一台设备适配 多种胶材、多种工艺曲线,换线时间大幅缩短,满足多品 种小批量生产需求。

3.温控精准,冷却迅速:复合式加热与多点控温协同工作,控温精度±1℃,升温速 率12℃/min,批次间固化效果高度一致。双重水冷系统 (产品冷却+腔体冷却)实现快速降温,大幅缩短制程等待 时间,有效提升单位小时产能(UPH)。 

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4.可选配HEPA过滤(千级/万级)+高纯氮气保护,残氧量<20ppm,有效防止氧 化及微颗粒污染;内胆SUS304不锈钢满焊圆角工艺,从源头减少微粒产生。多重 超压保护+安全门互锁+挥发物回收,多重防护协同保障设备长期稳定运行。

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设备名称   Equipment

压力烤箱                            

Pressure Oven

真空压力烤箱                            

Vacuum PressureOven

设备型号 ModelsSPO-600VPO-600
                                                                                    基础参数 Basic parameters
外形尺寸Dimensions (L-W-H/mm)1500-1950-1900
整机重量 Weight1500kg
排气口径 Exhaust Pipe Diameterφ150mm
压缩空气要求  Compressed Air Supply≥0.5mpa
电源 Power Supply3P5W 380V(AC), 50/60Hz
氮气/压缩空气接口 N₂ / Compressed Air Connectionφ13mm
设备功率 Installed Power25KW30KW
                                                                                   正压系统         Positive Pressure System
压力设定范围 Pressure Setting Range0-0.8MPa20mbar-0.8MPa
正压控制精度 Pressure Control Accuracy±0.01MPa
升压能力  Pressurization Time0-0.8MPa≤12min
泄压能力  Pressure Release Time0.8MPa-0≤5min
                                                                                    负压系统        Vacuum System
抽真空能力  Vacuum Pump-Down TimeNA常压 
Atmospheric Pressure -20mbar≤8min
真空控制精度 Vacuum Control AccuracyNA±5mbar

阶梯压力设置 

Multi-Step Pressure Programming

NA压力/真空多重多段设定 
Multi-stage Pressure / Vacuum Profile Setting
                                                                                    加热系统          Heating System
温度设定范围  Temperature Setting Range50-200℃
控温精度  Temperature Control Accuracy±1℃
升温速率 Heating Rate≥12℃/min (空载常压  No-load, Atmospheric Pressure)

加热产品空间 

Effective Chamber Size (L × W × H)

600-600-460/mm
                                                                                    冷却系统           Cooling System
降温速率 Cooling Rate≥5℃/min
温度控制方式 Temperature Control MethodPID+SSR
冷水机  Water Chiller外置 External 5P
                                                                                    选配系统  Optional Configurations
高压/高真空 High Pressure / High Vacuum选配 0-1MPa  Optional 0-1MPa选配 2mbar-1MPa 
Optional 2mbar-1MPa
高温 High Temperature选配  50-300℃  Optional  50-300℃
氧气浓度监控 Oxygen Concentration Monitoring选配 20 ppm  Optional 20 ppm
洁净度  Clean Class选配万级  Optional Class 10,000
自动开关门 Automatic Door Operation选配 Optional
自动上下料系统 Automatic Loading / Unloading System选配 Optional